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迄今为止，机械抛光虽然可以粗糙的表面，达到外观光洁的要求，但是由于在抛光过程中工件表面受到压力和热的作用，产生晶体变形层，对此，还需要进行化学抛加以除去，以便获得表面装饰性良好的优质膜层。本产品主要成分为优质进口表面活性剂、光亮剂和稳定剂等。
本品具有配制方便、操作简单，溶液稳定易于维护等特点。本品适用性强既可以用于三酸型抛光液，也可以用于双氧水体系抛光液的配制。
一、用于三酸工艺的使用方法：开槽比例：开槽药剂 重量比硫酸(p=1.84) -40~60% 盐酸(p=1.1 8) 0.4~0.7%硝酸钠（也可以用75的硝酸）- 3~7%铜材酸洗抛光添加剂T200 -5~8% 水（纯净水更佳）- 余量
开槽配制方法：1、取计量的纯净水放入抛光池中；
2、缓慢加入计量的硫酸到槽中，注意温度不要太高避免出现危险状况，一般先缓慢加入一部分硫酸等冷却之后，再缓慢加入剩余的硫酸，并冷却；（或以体积比稀释：6份水加4份浓硫酸）
3、冷却后，加入槽液计量的硝酸钠或硝酸，并不断搅拌使之混合均匀；
4、加入计量的盐酸，搅拌均匀；
5、再加入计量所需的铜材酸洗抛光添加剂T200到槽中，搅拌均匀待冷却到30℃以下后即可使用。
使用方法：把清洗好的铜件置于抛光液中浸泡约 10秒至2分钟（具体时间根据材料的氧化程度以及光亮度要求而定）后取出，用水洗净即可获得光亮的表面。（注：产品必须与药水充分接触，适当时可充分翻动产品）
工艺流程：前处理（除油脱脂）→水洗→ 酸洗抛光→水洗→铜材钝化（T402）→水洗→干燥，包装。
根据铜件的不同需求我们会有不同程度的调整，请把您需要解决的问题详细告诉我们哦！
